特許
J-GLOBAL ID：200903012009636173
露光用マスク作製装置における走査用データ作成装置及び走査用データの作成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 孝久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-188143
公開番号（公開出願番号）：特開平9-015833
出願日： 1995年06月30日
公開日（公表日）： 1997年01月17日
要約：
【要約】【目的】光近接効果補正を行うことによって露光用マスクの作製時間が延長することを回避することができ、光近接効果補正のためのデータ処理やデータ変換におけるデータの丸め込み誤差が生じ難く、レジスト露光条件の変更等に容易に対処し得る、半導体装置の製造において使用される露光用マスク作製装置における走査用データ作成方法を提供する。【構成】露光用マスクに形成されたパターンを露光光を用いてレジストに転写したときレジストに形成されるパターンの変形を抑制するために、補正されたパターンを露光用マスクに形成するためのラスタ走査方式若しくはベクタ走査方式のパターン描画装置における描画走査を制御するための走査用データの作成方法は、外部から送られてきたマスクデータに基づき走査用データを生成し、次いで、該生成された走査用データを所定の手法に基づき補正し、以て補正された走査用データを作成する。
請求項（抜粋）：
露光用マスクに形成されたパターンを露光光を用いてレジストに転写したときレジストに形成されるパターンの変形を抑制するために、補正されたパターンを露光用マスクに形成するためのラスタ走査方式若しくはベクタ走査方式のパターン描画装置を備えた露光用マスク作製装置に具備され、そして該パターン描画装置の描画走査を制御するための走査用データを作成する走査用データ作成装置であって、(イ)外部からマスクデータを受け取り、該マスクデータに基づき走査用データを生成するための走査用データ生成手段、(ロ)走査用データ生成手段にて生成された走査用データを記憶するデータ記憶手段、(ハ)該データ記憶手段に記憶された走査用データに対して所定の手法に基づき補正処理を行うための補正処理手段、及び、(ニ)補正された走査用データをパターン描画装置に送出するための出力制御手段、から成ることを特徴とする走査用データ作成装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
