特許

J-GLOBAL ID：200903012011433530

プラズマ発生装置、及びプラズマ発生方法

発明者： 佐藤 正典 ,  菅井 秀郎
出願人/特許権者： 本多電子株式会社 ,  菅井 秀郎
代理人 (1件)： 渥美 久彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-245841
公開番号（公開出願番号）：特開2007-059317
出願日： 2005年08月26日
公開日（公表日）： 2007年03月08日
要約：

【課題】 高温の反応場を生成して処理効率を高めることができるプラズマ発生装置を提供すること。【解決手段】 プラズマ発生装置11は、液体を導入可能な容器12と、超音波発生装置13と、マイクロ波発生装置14と、中性子照射装置16とを備える。超音波発生装置13は、容器12内の液体中に超音波を照射してキャビテーションを多発的に生じさせる。マイクロ波発生装置14は、液体におけるキャビテーション発生領域にマイクロ波を照射して放電プラズマを発生させる。中性子照射装置16は、液体における放電プラズマ発生領域に中性子を照射する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

液体を導入可能な容器と、 前記容器内の液体中に超音波を照射してキャビテーションを多発的に生じさせる超音波照射手段と、 前記液体におけるキャビテーション発生領域に電磁波を照射して放電プラズマを発生させる電磁波照射手段と、 前記液体における放電プラズマ発生領域に中性子を照射する中性子照射手段と を備えたことを特徴とするプラズマ発生装置。

IPC (4件)：

H05H 1/24 ,  B01J 19/08 ,  B01J 19/10 ,  B01J 19/12

FI (4件)：

H05H1/24 ,  B01J19/08 E ,  B01J19/10 ,  B01J19/12 C

Fターム (13件)：

4G075AA13 ,  4G075AA42 ,  4G075AA45 ,  4G075BA05 ,  4G075BA10 ,  4G075CA23 ,  4G075CA24 ,  4G075CA39 ,  4G075DA02 ,  4G075EB01 ,  4G075EB41 ,  4G075EC21 ,  4G075FC04

引用特許：

出願人引用 (1件)

• プラズマを発生させる方法およびプラズマ発生装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-098193   出願人：株式会社テクノネットワーク四国