特許

J-GLOBAL ID：200903012036940402

投射装置

発明者： 服部 徹夫 ,  井上 新吾 ,  江崎 賛平
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 永井 冬紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-207192
公開番号（公開出願番号）：特開平9-054286
出願日： 1995年08月14日
公開日（公表日）： 1997年02月25日
要約：

【要約】【課題】 コントラストの良い投射画像が得られる投射装置の提供。【解決手段】 光源光を二つの偏光に分離して、透過光および反射光としてそれぞれ出射する偏光ビームスプリッター10と、書き込み画像が書き込まれ、偏光ビームスプリッター10からの反射光を書き込み画像に応じて変調して出射する光書き込み型空間光変調素子30と、光書き込み型空間光変調素子30で変調されて偏光ビームスプリッター10に入射して透過する光を透過する偏光ビームスプリッター12と、偏光ビームスプリッター12を透過した光をスクリーン50上に投射する投射レンズ40とを備える。偏光ビームスプリッター10と偏光ビームスプリッター12とを接合して設けるようにしてもよい。

請求項（抜粋）：

光源光を二つの偏光に分離して、透過光および反射光としてそれぞれ出射する第1の偏光光学素子と、書き込み画像が書き込まれ、前記第1の偏光光学素子からの前記反射光を前記書き込み画像に応じて変調して出射する空間光変調素子と、前記空間光変調素子で変調されて前記第1の偏光光学素子に入射して透過する光を透過する第2の偏光光学素子と、前記第2の偏光光学素子を透過した光をスクリーン上に投射する投射光学系とを備えることを特徴とする投射装置。

IPC (3件)：

G02B 27/28 ,  G02F 1/13 505 ,  G02F 1/135

FI (3件)：

G02B 27/28 Z ,  G02F 1/13 505 ,  G02F 1/135

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平3-175437
  
• 表示装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-219708   出願人：日本ビクター株式会社
• 特開平3-175437