特許
J-GLOBAL ID:200903012047665934

レーザ加工用クリーナ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 篠部 正治
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-218376
公開番号(公開出願番号):特開平11-057631
出願日: 1997年08月13日
公開日(公表日): 1999年03月02日
要約:
【要約】【課題】可撓性基板に付着したレーザー加工残滓を、ドライな状態で基板に傷等のダメージを与えることなく除去でき、また交換周期が長いレーザ加工用クリーナを提供する。【解決手段】レーザ加工処理された可撓性基板表面1に付着しているレーザ加工残滓を除去するレーザ加工クリーナにおいて、前記加工残滓が付着した面側に配された、表面が柔らかく弾力性のある円筒形状のクリーニングローラ6と、このクリーニングローラと対向してこの反対面側に配された、クリーニングローラより硬い材質で形成した回転自在な円筒状の押さえローラ7とからなり、これら両ローラは前記可撓性基板を押しつけ合いながら挟み、クリーニングローラは回転しながら前記加工残滓が付着した面を擦り、前記加工残滓を除去する。レーザ加工装置は送り室2、加工室3、クリーニング室4、巻取り室5より構成されている。
請求項(抜粋):
レーザ加工処理された可撓性基板表面に付着しているレーザ加工残滓を除去するレーザ加工クリーナにおいて、前記加工残滓が付着した面側に配された、表面が柔らかく弾力性のある円筒形状のクリーニングローラと、このクリーニングローラと対向してこの反対面側に配された、クリーニングローラより硬い材質で形成した回転自在な円筒状の押さえローラとからなり、これら両ローラは前記可撓性基板を押しつけ合いながら挟み、クリーニングローラは回転しながら前記加工残滓が付着した面を擦り、前記加工残滓を除去することを特徴とするレーザ加工用クリーナ。
IPC (7件):
B08B 1/04 ,  B08B 11/00 ,  B08B 15/04 ,  B23K 26/00 ,  B23K 26/16 ,  F26B 5/14 ,  H01L 31/04
FI (7件):
B08B 1/04 ,  B08B 11/00 ,  B08B 15/04 ,  B23K 26/00 H ,  B23K 26/16 ,  F26B 5/14 ,  H01L 31/04 T
引用特許:
出願人引用 (3件)

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