特許
J-GLOBAL ID：200903012077542900
位相シフト量測定装置及び透過率測定装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
大山 健次郎
, 小山 有
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-339148
公開番号（公開出願番号）：特開2008-185582
出願日： 2007年12月28日
公開日（公表日）： 2008年08月14日
要約：
【課題】位相シフタの位相シフト量を一層正確に測定できる位相シフト量測定装置を実現することにある。【解決手段】シャリング干渉計(6,44)により、位相シフトマスク(3)の横ずらし干渉画像を形成し、当該干渉画像を2次元撮像装置(17,48)により撮像する。2次元撮像装置の各受光素子から出力される出力信号は信号処理装置(19)に供給され、各受光素子毎に位相シフト量を算出する。受光素子の受光面積は微小であるため、回折光や多重反射光が入射することにより特異的な位相量を出力する受光素子の位相シフト量を除外し、残りの受光素子の出力信号から求めた位相シフト量に基づいて位相シフト量を決定する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
位相シフトマスクの位相シフタ部を通過する光と非位相シフト部を通過する光との間の位相差である位相シフト量を測定する位相シフト量測定装置であって、
位相シフトマスクのマスクパターンに向けて照明光を投射する照明光源と、
マスクパターンから出射した光を受光し、マスクパターンの横ずらし干渉画像を形成するシャーリング干渉計と、
複数の受光素子を有し、前記マスクパターンの横ずらし干渉画像を撮像する2次元撮像装置と、
シャーリング干渉計により形成された横ずらし干渉画像を前記2次元撮像装置上に結像させる結像光学系と、
前記2次元撮像装置から出力される各受光素子の出力信号を受け取り、マスクパターンの位相シフト量を、2次元撮像装置の受光素子毎に算出する信号処理装置とを具えることを特徴とする位相シフト量測定装置。
IPC (4件)：
G01J 9/02
, H01L 21/027
, G03F 1/08
, G01B 9/02
G01J9/02
, H01L21/30 502P
, G03F1/08 S
, G01B9/02
2F064EE04
, 2F064EE08
, 2F064FF03
, 2F064GG13
, 2F064GG22
, 2F064GG23
, 2F064GG38
, 2F064GG44
, 2F064HH03
, 2F064HH08
, 2F064JJ15
, 2G086EE12
, 2H095BB03
, 2H095BD02
, 2H095BD15
, 2H095BD16
