パターン反射層の作製方法、回折構造形成体、及び回折構造形成体を備えた媒体

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-225887
公開番号（公開出願番号）：特開2003-043233
出願日： 2001年07月26日
公開日（公表日）： 2003年02月13日
要約：

【要約】【課題】本発明は、従来の走査によるレーザ加工による作製方法の生産効率の悪さを、フォトマスクを用いることにより、加工速度を改善した量産性に優れた、回折構造形成体の反射層上に形成するパターン反射層の作製方法、及びその作製方法によって得られる回折構造形成体並びにその回折構造形成体を備えた媒体を提供することを目的とする。【解決手段】レーザ光源より発振されたレーザ光を、任意の画像を設けたフォトマスクを通して部分的にレーザ光をカットし、回折構造形成体の反射層上で結像させて破壊し、パターン反射層を形成することを特徴とするパターン反射層作製方法及びその作製方法によって得られる回折構造形成体並びにその回折構造形成体を備えた媒体である。

請求項（抜粋）：

レーザ光源より発振されたレーザ光を、任意の画像を設けたフォトマスクを通して部分的にレーザ光をカットし、回折構造形成体の反射層上で結像させて破壊し、パターン反射層を形成することを特徴とするパターン反射層の作製方法。

IPC (8件)：

G02B 5/18 , B42D 15/10 501 , B42D 15/10 , G02B 5/32 , G03H 1/18 , G09F 3/00 , G09F 3/02 , G09F 19/12

FI (8件)：

G02B 5/18 , B42D 15/10 501 G , B42D 15/10 501 P , G02B 5/32 , G03H 1/18 , G09F 3/00 E , G09F 3/02 W , G09F 19/12 L

Fターム (19件)：

2C005HA01 , 2C005JB09 , 2C005LA19 , 2C005LA31 , 2C005LB07 , 2H049AA07 , 2H049AA25 , 2H049AA33 , 2H049AA40 , 2H049AA65 , 2H049CA05 , 2H049CA22 , 2H049CA28 , 2K008AA13 , 2K008EE04 , 2K008FF11 , 2K008FF12 , 2K008FF13 , 2K008FF14

引用特許：

審査官引用 (5件)

光回折構造を有する物品の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-210600 出願人：大日本印刷株式会社
個別情報の記録されたホログラムとその作製方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-286192 出願人：凸版印刷株式会社
光学素子及び光学素子の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-139442 出願人：株式会社リコー

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