特許
J-GLOBAL ID：200903012158446433
現像処理方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
松山 允之
, 河西 祐一
, 池上 徹真
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-227490
公開番号（公開出願番号）：特開2007-042968
出願日： 2005年08月05日
公開日（公表日）： 2007年02月15日
要約：
【課題】 レジストパターン寸法の基板面内での均一性を簡便に向上させる。【解決手段】 ガラス基板1は、スピン・ステージ2に固着して取り付けられた温度制御部材3上に固定して載置される。そして、ガラス基板1はモータ駆動の回転軸4およびスピン・ステージ2のスピン回転により回転され、ガラス基板1の上方部に配置した現像液ノズル5から霧状の現像液6が吐出し、ガラス基板1全面に供給される。ここで、ガラス基板1表面に供給された現像液6の温度は、ガラス基板1の下部に配置された温度制御部材3により、ガラス基板1上において所定の温度分布になるように制御される。このようにしてガラス基板1上のフォトレジストがスプレー現像される。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板を回転させながらノズルから前記基板上に現像液を供給するフォトレジストのスプレー現像において、
前記基板の裏面に温度制御部材を配置し、前記基板上における前記現像液の面内温度分布を前記温度制御部材により制御することを特徴とする現像処理方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 569C
, G03F7/30
2H096AA25
, 2H096AA27
, 2H096FA01
, 2H096GA29
, 2H096GA60
, 2H096JA03
, 5F046LA05
, 5F046LA13
, 5F046LA18
