フォトレジスト現像ノズル、フォトレジスト現像装置、およびフォトレジスト現像方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：中島淳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-311543
公開番号（公開出願番号）：特開2002-118057
出願日： 2000年10月12日
公開日（公表日）： 2002年04月19日
要約：

【要約】【課題】直径の大きなウェハーにおいても、均一な現像が行なえるフォトレジスト現像ノズル、フォトレジスト現像装置、およびフォトレジスト現像方法の提供。【解決手段】内部に複数の小室(8A〜8E)が設けられてなるノズル本体(8)と、前記小室(8A〜8E)のそれぞれに現像液を供給する現像液供給流路(14A〜14E)と、前記小室(8A〜8E)のそれぞれに設けられ、前記現像液供給流路(14A〜14E)から供給された現像液をウェハーWに吐出する現像液吐出部(10)とを備えてなることを特徴とするフォトレジスト現像ノズル、前記フォトレジスト現像ノズルを有するフォトレジスト現像装置、および前記フォトレジスト現像ノズルを使用するフォトレジスト現像方法。

請求項（抜粋）：

内部に複数の小室が設けられてなるノズル本体と、前記小室のそれぞれに現像液を供給する現像液供給流路と、前記小室のそれぞれに設けられ、前記現像液供給流路から供給された現像液をウェハーに吐出する現像液吐出部とを備えてなることを特徴とするフォトレジスト現像ノズル。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , B05B 1/14 , B05C 5/02 , G03F 7/30 501

FI (4件)：

B05B 1/14 Z , B05C 5/02 , G03F 7/30 501 , H01L 21/30 569 F

Fターム (20件)：

2H096AA25 , 2H096GA31 , 4F033AA14 , 4F033BA03 , 4F033CA04 , 4F033DA05 , 4F033EA01 , 4F033GA11 , 4F033HA01 , 4F033LA13 , 4F033NA01 , 4F041AA06 , 4F041BA35 , 4F041BA48 , 4F041BA56 , 4F041CA02 , 4F041CA17 , 4F041CA22 , 5F046LA03 , 5F046LA04

引用特許：

審査官引用 (11件)

現像装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-166905 出願人：東京エレクトロン株式会社
薬液処理装置およびこれを用いた薬液処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-310379 出願人：ソニー株式会社
特開昭61-102034

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