光導波路の形成方法

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-170151
公開番号（公開出願番号）：特開平11-014851
出願日： 1997年06月26日
公開日（公表日）： 1999年01月22日
要約：

【要約】【課題】光ファイバとの接続損失が発生すると共に、光ファイバの位置合わせが困難であるという問題があった。【解決手段】シリコン基板の一部を帯状に多孔質化して酸化すると共に、この酸化した領域の一部に不純物を含有させてコア部とクラッド部を設けた二個の光導波路部材を形成し、この二個の光導波路部材のそれぞれのコア部とクラッド部を対峙させて接合する。

請求項（抜粋）：

シリコン基板の一部を帯状に多孔質化して酸化すると共に、この酸化した領域の一部に不純物を含有させてコア部とクラッド部を設けた二個の光導波路部材を形成し、この二個の光導波路部材のそれぞれのコア部とクラッド部を対峙させて接合する光導波路の形成方法。

IPC (3件)：

G02B 6/13 , G02B 6/12 , G02B 6/28

FI (3件)：

G02B 6/12 M , G02B 6/12 N , G02B 6/28 Q

引用特許：

出願人引用 (6件)

特開昭63-231407
特開昭58-136007
特開昭59-081612

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審査官引用 (2件)

特開昭63-231407
特開昭58-136007

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