特許

J-GLOBAL ID：200903012201536956

光学的可逆記録方法

発明者： 山田 昇 ,  高尾 正敏 ,  木村 邦夫 ,  佐内 進
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 滝本 智之 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-214514
公開番号（公開出願番号）：特開平8-045074
出願日： 1987年09月21日
公開日（公表日）： 1996年02月16日
要約：

【要約】【目的】 レーザビーム照射で高速の可逆記録方法を提供する。【構成】 基板上に形成した記録層にGe、Sb、Teの3元系薄膜を用い、情報の記録・書換えに際しては、記録に先だち上記記録層を予め結晶化しておく行程と、上記結晶状態に転換した薄膜にレーザ光線を照射して上記記録膜を局所的に溶融しアモルファス状態に転換する行程と、上記アモルファス状態に転換された状態にレーザ光線を照射し、アモルファス領域を結晶状態に転換する行程とを含む。【効果】 情報の転送レートが毎秒数Mバイトと極めて大きく、単一のレーザービームでオーバライトが可能で、繰返し寿命の長い光学的可逆記録方法が達成できる。

請求項（抜粋）：

基板上に形成したGe-Sb-Teの3元合金を主成分とする薄膜を、レーザビームの照射により、上記薄膜を予め結晶状態に転換しておく行程、上記結晶状態に転換した薄膜を局所的に溶融し局部をアモルファス状態に転換する行程、上記アモルファス領域をアニールし上記アモルファス領域を結晶状態に転換する行程を含む光学的可逆記録方法。

IPC (3件)：

G11B 7/00 ,  G11B 7/24 511 ,  B41M 5/26

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭62-053886
  
• 特開昭61-089889
  
• 特開昭61-066696