特許

J-GLOBAL ID：200903012291786778

面位置検出方法およびそれを用いた露光装置

発明者： 山田 雄一 ,  河原 淳
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-354052
公開番号（公開出願番号）：特開平11-176735
出願日： 1997年12月09日
公開日（公表日）： 1999年07月02日
要約：

【要約】【課題】 焦点深度がパターン微細化のトレンド以上に厳しくなった工程においても基板表面の位置や傾きを高精度で高速に検出して補正する。【解決手段】 基板を投影光学系の光軸と略直交する方向に沿って移動し該基板の所定被検出域を前記投影光学系の像空間に送り込むとともに、前記基板の所定位置の前記光軸方向に関する位置および傾きの少なくとも一方を計測し、該計測値に基づき前記所定被検出域の面位置を検出して所定設定面に位置決めし前記投影光学系の焦平面に合焦させる際の移動方式として、前記計測を前記基板の移動中に行なう第1の移動モードと前記所定被検出面が前記像空間内で略位置決めされた状態で行なう第2の移動モードとを用意し、状況に応じてこれらのモードのうち一方を選択する。

請求項（抜粋）：

基板を投影光学系の光軸と略直交する方向に沿って移動し該基板の所定被検出域を前記投影光学系の像空間に送り込むとともに、前記基板の所定位置の前記光軸方向に関する位置および傾きの少なくとも一方を計測し、該計測値に基づき前記所定被検出域の面位置を検出して所定設定面に位置決めし前記投影光学系の焦平面に合焦させる際の面位置検出方法において、前記計測を前記基板の移動中に行なう第1の検出モードと前記所定被検出面が前記像空間内で略位置決めされた状態で行なう第2の検出モードのうち一方を選択して行なうことを特徴とする面位置検出方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G01B 11/00 ,  G01B 11/26 ,  G03F 9/02

FI (5件)：

H01L 21/30 526 B ,  G01B 11/00 A ,  G01B 11/26 Z ,  G03F 9/02 H ,  H01L 21/30 516 B

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平4-350925
  
• 投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-346073   出願人：株式会社ニコン