耐光性に優れた低反射回路転写装置用防塵枠部材およびその製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-069415
公開番号（公開出願番号）：特開平9-236908
出願日： 1996年02月29日
公開日（公表日）： 1997年09月09日
要約：

【要約】【課題】特に紫外線や遠紫外線の一種であるエキシマレーザー等の高エネルギー光照射にも退色しない低反射黒色表面を実現した高強度アルミニウム合金による回路転写装置用防塵枠部材を得る。【解決手段】 3.5〜9.5%Zn,1〜4.5%Mg,0〜3%Cuを含む耐力が350N/mm2以上のAl合金部材の表面に陽極酸化皮膜を形成し、その皮膜中に金属成分を電解析出させる。

請求項（抜粋）：

Zn3.5〜9.5%,Mg1〜4.5%、Cu0〜3%を含み残部不純物とAlとからなり、耐力が350N/mm<SP>2</SP>以上の、枠状のAl合金部材で、表面に形成された膜厚4〜35μmの陽極酸化被膜のポアー中にNi,Co,Cu,Sn,Feの1種または2種以上が電解析出してL値<40の黒色となっていることを特徴とする耐光性に優れた低反射回路転写装置用防塵枠部材。

IPC (2件)：

G03F 1/14 , H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 1/14 K , H01L 21/30 502 P

引用特許：

審査官引用 (2件)

特開平1-275733
防塵膜
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-038065 出願人：三井石油化学工業株式会社

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