特許
J-GLOBAL ID:200903037048019095
防塵膜
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
佐藤 晃一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-038065
公開番号(公開出願番号):特開平7-248615
出願日: 1994年03月09日
公開日(公表日): 1995年09月26日
要約:
【要約】【目 的】 LSI製造のリソグラフィー工法において次世代の露光光として用いられるエキシマレーザー光のような短波長の露光光に対して耐光性を有し、発塵しないペリクルを提供する。【構 成】 アルミニウム材よりなる枠2の表面を合金発色や電解液発色などの自然発色法によって黒色アルマイト化処理する。
請求項(抜粋):
枠と、枠の一側面に張設される膜よりなり、配線パターンの原図であるマスクやレチクル等に装着されて、パターン上に異物が付着するのを防止する目的で用いられる防塵膜において、上記枠として、少なくとも表面部分がアルマイトを除くセラミックスである枠を用いたことを特徴とする防塵膜。
IPC (2件):
引用特許:
審査官引用 (7件)
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特開平3-153255
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特開平4-070750
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ペリクルの製造法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-194498
出願人:東ソー株式会社
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特開平3-166545
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特開平4-190355
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特開平1-275733
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ペリクル
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-054595
出願人:旭化成電子株式会社, 日本軽金属株式会社, 株式会社日軽技研
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