特許

J-GLOBAL ID：200903012329280849

リソグラフィ装置およびデバイス製造方法

発明者： ヨエリ ロフ ,  エリク テオドルス マリア ビユラールト ,  ハンス ブトレル ,  シュオエルド ニコラース ラムベルトゥス ドンデルス ,  クリスティアーン アレクサンデル ホーゲダム ,  アレクセイ コレスニチェンコ ,  エリク ローロフ ロープストラ ,  ヘンドリクス ヨハンネス マリア メイユエール ,  イエローン ヨハンネス ソフィア マリア メルテンス ,  ヨハンネス カタリヌス フベルトゥス ムルケンス ,  ローロフ アエイコ シーブランド リトセマ ,  フランク ファン スカイク ,  ティモテウス フランシスカス センゲルス ,  クラウス シモン ,  ヨハンネス テオドール デ スミット ,  アレクサンデル ストラーイユエール ,  ボブ ストレーフケルク ,  ヘルマール ファン サンテン
出願人/特許権者： エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ
代理人 (4件)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  吉田 裕 ,  岩本 行夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-417260
公開番号（公開出願番号）：特開2004-289127
出願日： 2003年11月11日
公開日（公表日）： 2004年10月14日
要約：

【課題】投影システムの最終要素と基板間の空間を液体で充填するリソグラフィ投影装置を開示する。【解決手段】縁密封部材17、117が、基板テーブルWT上の基板Wまたは他のオブジェクトを少なくとも部分的に囲み、基板の縁部分を撮像または照明する場合の破局的液体損を防止する。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

-放射線の投影ビームを供給する放射線システムと、 -パターン形成手段を支持する支持構造とを備え、パターン形成手段は、所望のパターンに従って投影ビームにパターン形成する働きをし、さらに、 -基板を保持する基板テーブルと、 -パターン形成したビームを基板の標的部分に投影する投影システムと、 -前記投影システムの最終要素と、基板テーブル上に配置されたオブジェクト間の空間を液体で少なくとも部分的に充填する液体供給システムとを備え、 前記基板テーブルが、さらに、オブジェクトも縁を少なくとも部分的に囲む縁密封部材と、前記縁密封部材と前記投影システムとは反対側にあるオブジェクトとの間のギャップに真空または液体を供給するよう配置された真空孔または液体供給孔とを備えることを特徴とするリソグラフィ投影装置。

IPC (2件)：

H01L21/027 ,  G03F7/20

FI (3件)：

H01L21/30 515D ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 515G

Fターム (3件)：

5F046BA05 ,  5F046CC01 ,  5F046DA07

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 液浸型露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-121757   出願人：株式会社ニコン
• 液浸式投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-339510   出願人：キヤノン株式会社

審査官引用 (2件)

• 液浸型露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-121757   出願人：株式会社ニコン
• 液浸式投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-339510   出願人：キヤノン株式会社