特許
J-GLOBAL ID:200903012441269963
高度な耐摩耗性コーティングの蒸着のためのイオンビーム法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
中村 稔 (外7名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-523076
公開番号(公開出願番号):特表平10-500633
出願日: 1995年03月01日
公開日(公表日): 1998年01月20日
要約:
【要約】耐摩耗性及び耐用年数が向上した被覆基体を製造するためのイオンビーム蒸着法が提供される。この方法によれば、汚染物質を除去するため、第1に基体を化学洗浄する。第2の工程で、基体を真空チャンバーに導入し、該チャンバーを脱気する。第3の段階で、残りの炭化水素及び表面酸化物の除去を補助して表面を活性化するために、基体表面を強力イオンで攻撃する。基体表面をスパッターエッチングした後、保護、耐摩耗性コーティングをイオンビーム蒸着によって蒸着する。イオンビーム蒸着コーティングは、1以上の層を有する。コーティングの厚みの選択が行われるようになったら、基体上の蒸着工程を終了し、真空チャンバー内の圧力を大気圧まで上昇させ、耐摩耗性の向上したコーティングされた製品を真空チャンバーから取り出す。本発明笑みの被覆基体は、プラスチック製サングラスレンズ、眼科用レンズ、バーコードスキャナーウインドウ、及びすり減り及び摩耗から保護されるべき工業用部品として有用である。
請求項(抜粋):
基体表面上に、保護、耐摩耗性コーティングを製造する方法であって、 汚染物質を除去するために上記基体表面を化学洗浄し、 残りの汚染物質を更に除去し上記表面を活性化するために、真空蒸着チャンバー内で強力イオンのビームで、上記基体表面をスパッターエッチングし、 以下の、Si及びC;Si、C及びH;Si及びN;Si、N及びH;Si及びO;Si、O及びH;Si、O及びN;Si、O、N及びH;Si、C及びN;Si、C、H及びN;Si、C及びO;Si、C、H及びO;Si、C、O及びN;Si、C、H、O及びNからなる群から選択される原子の組み合わせの少なくとも1つを含有する耐摩耗性コーティング材料の層を前駆体ガスを用いてイオンビーム蒸着し、 真空チャンバーの圧力を実質的に大気圧に上昇させ、 耐摩耗性が向上した被覆基体製品を回収する、 工程からなる方法。
IPC (5件):
B32B 9/00
, B05D 3/04
, B32B 7/02
, C23C 14/32
, C23F 4/00
FI (5件):
B32B 9/00 A
, B05D 3/04 Z
, B32B 7/02
, C23C 14/32 F
, C23F 4/00 C
引用特許:
審査官引用 (4件)
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特表平6-501745
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特開平2-070063
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特公平6-008510
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薄膜形成装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-172218
出願人:日本電気株式会社
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