特許
J-GLOBAL ID：200903012479718443
チタンの低級塩化物を還元して金属チタンを製造する方法及びその製造装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (7件)：
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 渡邊 隆
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 西 和哉
, 村山 靖彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-019889
公開番号（公開出願番号）：特開2005-213548
出願日： 2004年01月28日
公開日（公表日）： 2005年08月11日
要約：
【課題】 還元反応を高速化すると共に反応容器からの鉄等の不純物汚染を防止し、反応副生成物の除去が容易な金属チタンの製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】 原料である二塩化チタン又は三塩化チタンを、チタン製反応容器2を用いて、金属マグネシウム又はマグネシウム合金により還元して、金属チタンを得る還元工程を有する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
原料である二塩化チタン又は三塩化チタンを、チタン製反応容器を用いて、
金属マグネシウム又はマグネシウム合金により還元して、金属チタンを得る還元工程を有することを特徴とする金属チタンの製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (4件)：
4K001AA27
, 4K001BA08
, 4K001DA14
, 4K001HA02
