特許

J-GLOBAL ID：200903012505396506

反射型露光マスク

発明者： 高橋 政志 ,  小川 太郎 ,  鉾 宏真
出願人/特許権者： 沖電気工業株式会社 ,  株式会社日立製作所 ,  富士通株式会社
代理人 (1件)： 前田 実
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-048654
公開番号（公開出願番号）：特開2001-237174
出願日： 2000年02月25日
公開日（公表日）： 2001年08月31日
要約：

【要約】【課題】 解像度に悪影響を及ぼすことなく、EUV露光像のコントラストを向上させる。【解決手段】 EUVリソグラフィに用いられる反射型露光マスクにおいて、下地基板1上に2種類以上の材料層を周期的に積層させた多層膜2を形成し、多層膜2上に、窒化を含む金属膜からなるマスクパターン11、または窒化金属膜と金属膜の積層構造からなるマスクパターンを形成する。

請求項（抜粋）：

EUVリソグラフィに用いられる反射型露光マスクにおいて、基板上に積層形成された多層膜上に、窒素を含む金属膜からなるマスクパターンを有することを特徴とする反射型露光マスク。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/08

FI (3件)：

G03F 1/08 G ,  H01L 21/30 531 M ,  H01L 21/30 517

Fターム (11件)：

2H095BA07 ,  2H095BC05 ,  2H095BC11 ,  5F046AA23 ,  5F046BA05 ,  5F046GA03 ,  5F046GB01 ,  5F046GC05 ,  5F046GD01 ,  5F046GD10 ,  5F046GD16

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 特開昭63-201656
  
• 反射型リソグラフィマスク構造及びその製造方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2001-514631   出願人：コミツサリアタレネルジーアトミーク
• X線吸収マスクの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-211287   出願人：モトローラ・インコーポレイテッド
• 特開昭57-161857
  

審査官引用 (4件)

• 特開昭63-201656
  
• 反射型リソグラフィマスク構造及びその製造方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2001-514631   出願人：コミツサリアタレネルジーアトミーク
• X線吸収マスクの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-211287   出願人：モトローラ・インコーポレイテッド
• 特開昭57-161857