特許
J-GLOBAL ID:200903012604304354

露点腐食防止方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 岸本 瑛之助 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-211205
公開番号(公開出願番号):特開2000-045058
出願日: 1998年07月27日
公開日(公表日): 2000年02月15日
要約:
【要約】【課題】 塩酸露点腐食の発生を防止することのできるコストの安い露点腐食防止方法を提供する。【解決手段】 露点腐食環境下に置かれる器材の表面に、爆発溶射法または高速ガス炎溶射法により、Ni80〜20wt%およびCr15〜50wt%(但し、NiとCrの合計量は60wt%以上である)を含み、残部不可避不純物からなる合金の溶射皮膜を形成する。
請求項(抜粋):
露点腐食環境下に置かれる器材の表面に、爆発溶射法または高速ガス炎溶射法により、Ni80〜20wt%およびCr15〜50wt%(但し、NiとCrの合計量は60wt%以上である)を含み、残部不可避不純物からなる合金の溶射皮膜を形成することを特徴とする露点腐食防止方法。
Fターム (8件):
4K031AA08 ,  4K031AB09 ,  4K031CB22 ,  4K031CB23 ,  4K031CB24 ,  4K031CB30 ,  4K031DA01 ,  4K031DA06
引用特許:
審査官引用 (4件)
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