ガスハイドレート連続製造方法及び装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山田恒光 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-129012
公開番号（公開出願番号）：特開2003-321686
出願日： 2002年04月30日
公開日（公表日）： 2003年11月14日
要約：

【要約】【課題】反応容器内で水とハイドレート生成ガスとを反応させて生成したガスハイドレートを連続的に安定して取り出せるようにして高効率なガスハイドレートの製造を可能する。【解決手段】給水管5とハイドレート生成ガス導入管9とを備えた反応容器1と、液面の上下に亘って延びる破砕部材11を備えて回転する破砕装置12と、反応容器1の所定高さにガスハイドレート取出口17が接続されており反応容器1内圧力を保持してスラリ状のガスハイドレートを反応容器1外部に取り出し可能な強制取出手段16とを備える。

請求項（抜粋）：

反応容器に所定レベルを保持するよう水を供給すると共に反応容器内が所定圧力範囲に保持されるようにハイドレート生成ガスを供給して所定の冷却温度で接触させることによりガスハイドレートを生成させる方法において、液面に生成するガスハイドレート膜を破砕することによりスラリ状のガスハイドレートとし、該スラリ状のガスハイドレートを圧力保持が可能な強制取出手段により反応容器外部に取り出すことを特徴とするガスハイドレート連続製造方法。

IPC (7件)：

C10L 3/06 , B01J 19/00 , C07B 61/00 , C07B 63/02 , C07C 5/00 , C07C 7/20 , C07C 9/04

FI (7件)：

B01J 19/00 A , C07B 61/00 C , C07B 63/02 B , C07C 5/00 , C07C 7/20 , C07C 9/04 , C10L 3/00 A

Fターム (21件)：

4G075AA03 , 4G075AA61 , 4G075AA70 , 4G075BD13 , 4G075CA51 , 4G075DA02 , 4G075EA06 , 4G075EB01 , 4G075ED02 , 4G075ED08 , 4G075ED09 , 4H006AA02 , 4H006AA04 , 4H006AC90 , 4H006BC10 , 4H006BC11 , 4H006BD20 , 4H006BD80 , 4H006BD81 , 4H006BD84 , 4H006BE60

引用特許：

審査官引用 (1件)

ハイドレートの製造方法および製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-069291 出願人：三菱重工業株式会社

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