特許
J-GLOBAL ID:200903012643055663
マスク
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
片山 修平
, 岡島 伸行
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-112677
公開番号(公開出願番号):特開2006-288650
出願日: 2005年04月08日
公開日(公表日): 2006年10月26日
要約:
【課題】 簡易な構造で低コストにて製造することができ、装着したときにメガネの曇りを抑制できるマスクを提供する。【解決手段】 両鼻孔及び口を覆う大きさを有するマスク本体2が、装着されたとき前記鼻孔よりも上方となる部分に粘着層4を備えているマスク1Aである。このマスク1Aによると、使用者の鼻孔よりも上方となる部分に粘着層4を備えているので、粘着層4が使用者の顔面に張り付くことで吐息の上昇を防止する。その結果、マスクより上に位置するメガネの曇を抑制できる。マスク本体2に別体で耳掛け用の紐を付加してもよいし、マスク本体と一体的に形成した耳掛け部を設けてもよい。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
両鼻孔及び口を覆う大きさを有するマスク本体が、装着されたとき前記鼻孔よりも上方となる部分に粘着層を備えていることを特徴とするマスク。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (7件):
2E185AA07
, 2E185BA04
, 2E185CA03
, 2E185CB07
, 2E185CB16
, 2E185CC33
, 2E185CC36
引用特許:
出願人引用 (1件)
-
衛生マスク
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-177591
出願人:坂本年生
審査官引用 (2件)
-
鼻孔拡張マスク
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-197425
出願人:萩原秀紀
-
衛生マスク
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-110433
出願人:明星産商株式会社
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