特許

J-GLOBAL ID：200903012732345098

プラズマ処理装置

発明者： 川上 聡 ,  虎口 信
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社 ,  東京エレクトロン東北株式会社 ,  富士電機株式会社
代理人 (1件)： 浅井 章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-324784
公開番号（公開出願番号）：特開平9-190900
出願日： 1995年09月14日
公開日（公表日）： 1997年07月22日
要約：

【要約】【課題】 マイクロ波の反射電力を略なくすことができるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】 被処理体Wを収容した処理容器2内にマイクロ波発生器52から導波管50を介してマイクロ波を導入してプラズマを発生させて、前記被処理体に所定の処理を施すようにしたプラズマ処理装置において、前記導波管に、前記処理容器からの反射波をなくすためのマッチング手段84を設けるように構成する。これにより、マイクロ波の反射電力を略なくす。

請求項（抜粋）：

被処理体を収容した処理容器内にマイクロ波発生器から導波管を介してマイクロ波を導入してプラズマを発生させて、前記被処理体に所定の処理を施すようにしたプラズマ処理装置において、前記導波管に、前記処理容器からの反射波をなくすためのマッチング手段を設けるように構成したことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (6件)：

H05H 1/46 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31

FI (6件)：

H05H 1/46 C ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 D ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 C ,  H01L 21/302 B

引用特許：

審査官引用 (4件)

• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-048948   出願人：富士電機株式会社
• 特開平2-141494
  
• 高周波電源装置及びプラズマ発生装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-330663   出願人：富士通株式会社, 株式会社富士通東北エレクトロニクス
• 特開平2-141494