現像方法及びその装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：杉谷勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-003994
公開番号（公開出願番号）：特開平11-204401
出願日： 1998年01月12日
公開日（公表日）： 1999年07月30日
要約：

【要約】【課題】濡れ性を高めた後に現像液を供給することにより、塗布被膜の全面を現像液で均一に覆って、『液はじき』や『液流れ』に起因する現像欠陥の発生を防止することができる現像方法及びその装置を提供する。【解決手段】露光済みの塗布被膜Fに対してプリウエット液PLを供給した後に、水平面内の一端側からプリウエット液PLを除去しつつ、その除去した領域に現像液Dを供給する。これにより塗布被膜表面の濡れ性を向上させて『液はじき』や『液流れ』を防止し、現像液Dを均一に液盛りすることができる。したがって、現像欠陥を防止することができる。

請求項（抜粋）：

基板の表面に沿って移動しながら現像液を供給することにより、その表面に被着された露光済みの塗布被膜上に液盛りして現像処理を施す現像方法であって、プリウエット液を供給した後に、水平面内の一端側からプリウエット液を除去しつつ、その除去した領域に現像液を供給するようにしたことを特徴とする現像方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/30 501

FI (3件)：

H01L 21/30 569 F , G03F 7/30 501 , H01L 21/30 569 D

引用特許：

審査官引用 (1件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-271490 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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