特許
J-GLOBAL ID：200903012799105040

熱処理装置

発明者：
矢坂 正男

矢坂 正男 について


出願人/特許権者：
エスペック株式会社

エスペック株式会社 について


代理人 (1件)： 藤田 隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-194242
公開番号（公開出願番号）：特開2006-017357
出願日： 2004年06月30日
公開日（公表日）： 2006年01月19日
要約：
【課題】 構成が比較的シンプルであり、基板の熱処理に伴って発生する生成ガスが冷却されて発生するいわゆる昇華物の発生を抑制可能な熱処理装置の提供を目的とする。 【解決手段】 熱処理装置1は、基板処理部5が熱風を供給するための熱風供給手段14を備えた空気調整部11と基板を熱処理するための熱処理室12とを有する。熱処理装置1は、熱処理室12の最下流側に基板を処理した際に発生する生成ガスの酸化分解を促進する触媒を担持させた触媒壁40を配している。そのため、熱処理装置1は、生成ガスが冷却されることにより発生する、いわゆる昇華物の発生量が極めて少ない。また、熱処理装置1は、生成ガスの酸化分解の際に反応熱が発生するため、熱処理の際に混合ガスを加熱するのに要する消費電力が僅かで済む。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
熱風を供給する熱風供給手段と、当該熱風供給手段において発生する熱風が導入され、当該熱風によって被加熱物を加熱する加熱室とを有し、 被加熱物の加熱に伴って発生した生成ガスが流れる領域には、前記生成ガスを酸化分解する生成ガス分解手段が配置されていることを特徴とする熱処理装置。
IPC (2件)：
F27D 17/00 ,  F27B 17/00
FI (2件)：
F27D17/00 104G ,  F27B17/00 B
Fターム (5件)：
4K056AA09 ,  4K056BB06 ,  4K056CA18 ,  4K056DB02 ,  4K056FA13
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 特許第2971771号 公報
審査官引用 (10件)
  • 特開2049-174464
  • 特開2050-053769
  • 特開昭63-099492
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