特許
J-GLOBAL ID:200903012865959242

改質装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鈴江 武彦 (外5名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-174478
公開番号(公開出願番号):特開2002-362901
出願日: 2001年06月08日
公開日(公表日): 2002年12月18日
要約:
【要約】【課題】本発明は、必要量の触媒を小スペースで収納して、コンパクト化を図ることを課題とする。【解決手段】直径の異なる内円筒管11と外円筒管12を同心円状に配置した二重管を有し、内円筒管内側には加熱ガスを流入してその内面を加熱し、かつ内円筒管と外円筒管の隙間には改質触媒14を設置して、原料ガス15をその隙間に流し、内円筒管内面を介して加熱ガスから供給される熱で改質を行う改質装置において、内円筒管11の外円筒管12側に面する外壁面上に二重管の隙間相当高さのスパイラルフィン13を設け、該スパイラルフィン間に設け、該スパイラルフィン13間に改質触媒14を充填し、原料ガス15をそのスパイラルフィン13間の流路に従って流すことを特徴とする改質装置。
請求項(抜粋):
直径の異なる内円筒管と外円筒管を同心円状に配置した二重管を有し、内円筒管内側には加熱ガスを流入してその内面を加熱し、かつ内円筒管と外円筒管の隙間には改質触媒を設置して、原料ガスをその隙間に流し内円筒管内面を介して加熱ガスから供給される熱で改質を行う改質装置において、内円筒管の外円筒管側に面する外壁面上に二重管の隙間相当高さのスパイラルフィンが設けられ、該スパイラルフィン間に改質触媒を充填し、原料ガスをそのスパイラルフィン間の流路に従って流すことを特徴とする改質装置。
IPC (4件):
C01B 3/32 ,  B01J 8/06 301 ,  C01B 3/38 ,  H01M 8/06
FI (4件):
C01B 3/32 A ,  B01J 8/06 301 ,  C01B 3/38 ,  H01M 8/06 G
Fターム (14件):
4G040EA01 ,  4G040EB14 ,  4G040EB24 ,  4G040EB46 ,  4G040EC07 ,  4G070AA01 ,  4G070AB06 ,  4G070AB08 ,  4G070BB03 ,  4G070CA01 ,  4G070CB16 ,  4G070DA11 ,  4G070DA23 ,  5H027BA01
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 単管円筒式改質器
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2001-312955   出願人:東京瓦斯株式会社
  • 特開平4-363133
  • 特開平3-238036
全件表示

前のページに戻る