電子ビーム励起プラズマ成膜装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：西教圭一郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-146806
公開番号（公開出願番号）：特開平8-027577
出願日： 1994年06月28日
公開日（公表日）： 1996年01月30日
要約：

【要約】【目的】原料ガスの種類が変化したり、混合ガスを用いる場合でも、成膜速度の低下を防ぎ、成膜組成の均質化を図ることができる電子ビーム励起プラズマ成膜装置を提供する。【構成】電子ビーム励起プラズマ成膜装置1は、高いエネルギーを持つ電子ビームを発生する電子ビーム発生装置2aと、低いエネルギーを持つ電子ビームを発生する電子ビーム発生装置2bと、電子ビーム励起によってプラズマを発生するプラズマ反応装置3とを備える。高いエネルギーの電子ビームが入射すると、電離または解離に高い活性化エネルギーを必要とするガス分子から成るプラズマPBaを効率良く生成する。低いエネルギーの電子ビームが入射すると、低い活性化エネルギーのガス分子から成るプラズマPBbを効率良く生成する。各プラズマPBa,PBbは、試料S上で化学的気相成長を行って、多元素薄膜を成膜する。

請求項（抜粋）：

電子ビームによって励起されるプラズマを利用して、試料上で化学的気相成長を行う電子ビーム励起プラズマ成膜装置において、エネルギーが相異なる複数の電子ビームを発生するための複数の電子ビーム発生手段を備えることを特徴とする電子ビーム励起プラズマ成膜装置。

引用特許：

出願人引用 (2件)

特開昭62-204520
プラズマ生成用陰極
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-342997 出願人：理化学研究所

審査官引用 (3件)

特開昭62-204520
特開昭62-204520
プラズマ生成用陰極
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-342997 出願人：理化学研究所

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