特許

J-GLOBAL ID：200903012923208015

微粒子成膜法及び微粒子成膜装置

発明者： 柴田 憲治
出願人/特許権者： 日立電線株式会社
代理人 (1件)： 油井 透
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-060085
公開番号（公開出願番号）：特開2006-241544
出願日： 2005年03月04日
公開日（公表日）： 2006年09月14日
要約：

【課題】 ノズルから噴き出す原料微粒子を含んだガス流を、開口パターンマスクを用いることなく均一化し、膜の表面の凸凹や、面内で特性の不均一性をなくする方法を提供することにある。【解決手段】 原料微粒子を含んだガス1を微小なノズル15に通すことで加速して減圧チャンバー14に導入し、減圧チャンバー内に設置した基板4に原料微粒子を衝突させて基板4上に膜を堆積させる微粒子成膜法において、原料微粒子を含んだガスを噴出する第一噴射ノズル5の直近に、原料微粒子を含まないガスを噴出する第二噴射ノズル6を並置し、その第二噴射ノズル6から噴出するガス7を、上記第一噴射ノズルから噴出する原料微粒子を含んだガス流3に隣接して流し、これにより上記原料微粒子を含んだガス流3の中心部と周辺部のガス流3aと3bの流速の差を低減する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

原料微粒子を含んだガスを微小なノズルに通すことで加速して減圧チャンバーに導入し、減圧チャンバー内に設置した基板に原料微粒子を衝突させて基板上に膜を堆積させる微粒子成膜法において、 上記原料微粒子を含んだガスを噴出する第一噴射ノズルの直近に、原料微粒子を含まないガスを噴出する第二噴射ノズルを並置し、その第二噴射ノズルから噴出するガスを、上記第一噴射ノズルから噴出する原料微粒子を含んだガスの流れに隣接して流し、これにより上記第一噴射ノズルから噴出する原料微粒子を含んだガス流の中心部と周辺部の流速の差を低減することを特徴とする微粒子成膜法。

IPC (1件)：

C23C 24/04

FI (1件)：

C23C24/04

Fターム (8件)：

4K044AA13 ,  4K044BA12 ,  4K044BB01 ,  4K044BB02 ,  4K044BC14 ,  4K044CA13 ,  4K044CA23 ,  4K044CA71

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 超微粒子成膜法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-210765   出願人：工業技術院長
• 微細造形方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-027162   出願人：工業技術院長