特許
J-GLOBAL ID:200903065037832081
微細造形方法及び装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
工業技術院機械技術研究所長
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-027162
公開番号(公開出願番号):特開平10-202171
出願日: 1997年01月27日
公開日(公表日): 1998年08月04日
要約:
【要約】【課題】超微粒子の噴射による造形物の微細、高精度な形成が可能な超微粒子堆積技術を得ること【解決手段】超微粒子材料をノズル6を通して基板4上に噴射し堆積させて微細形状の造形物を形成する場合に、ノズル6と基板4との間に所定の開口パターンを構成する開口を有するマスク5を配置し、マスク5と基板4上の造形物の成長表面または基板の表面との距離を一定に保った状態でノズル6をマスク5に対して相対変位させつつ超微粒子材料をマスク5の開口を通して基板4に噴射させる
請求項(抜粋):
超微粒子材料をノズルを通して基板上に噴射し堆積させて微細形状の造形物を形成する場合に、前記ノズルと基板との間に所定の開口パターンを構成する開口を有するマスクを配置し、前記マスクと前記基板上の造形物の成長表面または前記基板の表面との距離を一定に保った状態で前記ノズルを前記マスクに対して相対変位させつつ前記超微粒子材料を前記マスクの開口を通して前記基板に噴射させることを特徴とする微細造形方法。
IPC (5件):
B05D 1/32
, B05D 1/12
, B22F 3/02
, H01L 21/3205
, H05K 3/14
FI (5件):
B05D 1/32 Z
, B05D 1/12
, H05K 3/14 Z
, B22F 3/02 Z
, H01L 21/88 B
引用特許:
審査官引用 (5件)
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ファクシミリ通信制御方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-320817
出願人:株式会社ピーエフユー
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発光Si超微粒子パターンの形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-308448
出願人:株式会社日立製作所
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特公平3-014512
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文字などの自動刷込装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-333139
出願人:豊国工業株式会社, ウインテック株式会社
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特開昭52-150453
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