特許
J-GLOBAL ID:200903012936992386

炭化珪素膜

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 中村 静男 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-023963
公開番号(公開出願番号):特開平9-221395
出願日: 1996年02月09日
公開日(公表日): 1997年08月26日
要約:
【要約】【課題】 膜質が均一な、特に内部応力が小さく制御された歪みの少ない炭化珪素膜を、厳密な成膜条件を必要とせずに得ることを目的とする。【解決手段】 基体上に形成される多結晶の炭化珪素膜において、該炭化珪素膜は基体表面に被覆された多結晶薄膜を介して形成されていることを特徴とする炭化珪素膜。
請求項(抜粋):
基体上に形成される多結晶の炭化珪素膜において、該炭化珪素膜は基体表面に被覆された多結晶薄膜を介して形成されていることを特徴とする炭化珪素膜。
引用特許:
審査官引用 (2件)

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