特許

J-GLOBAL ID：200903012987780103

X線用光学素子

発明者： 三浦 隆幸 ,  安藤 謙二 ,  金沢 秀宏 ,  松本 誠謙 ,  辰巳 俊平 ,  福井 慎次 ,  永田 香子 ,  寺西 康治
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (2件)： 西山 恵三 ,  内尾 裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-278429
公開番号（公開出願番号）：特開2009-156863
出願日： 2008年10月29日
公開日（公表日）： 2009年07月16日
要約：

【課題】 基板変形の原因となる膜応力を抑制するための応力緩衝層を設ける際に、応力緩衝層によって生じる膜厚ムラを低減する。【解決手段】 基板と、軟X線波長領域の光に対して反射特性を有する第1の多層膜と、前記第1の多層膜と前記基板の間に設けられ、第一の多層膜の膜応力を低減する第2の多層膜とを有するX線用光学素子であって、 前記第2の多層膜は周期構造を有し、前記周期構造の単位周期膜厚が、7nmの2以上の整数倍の90%以上110%未満であるX線用光学素子、を用いる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

基板と、軟X線波長領域の光に対して反射特性を有する第1の多層膜と、前記第1の多層膜と前記基板の間に設けられ、第1の多層膜の膜応力を低減する第2の多層膜とを有するX線用光学素子であって、 前記第2の多層膜は周期構造を有し、前記周期構造の単位周期膜厚が、7nmの2以上の整数倍の90%以上110%未満であるX線用光学素子。

IPC (5件)：

G21K 1/06 ,  G02B 5/28 ,  G02B 5/26 ,  G03F 1/16 ,  H01L 21/027

FI (7件)：

G21K1/06 B ,  G02B5/28 ,  G02B5/26 ,  G03F1/16 A ,  H01L21/30 531A ,  H01L21/30 531M ,  G21K1/06 C

Fターム (8件)：

2H048FA07 ,  2H048FA18 ,  2H048FA22 ,  2H048FA24 ,  2H095BA10 ,  2H095BC27 ,  5F046GB01 ,  5F046GD10

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 多層フィルムの応力により生じる光学素子の変形を調節する方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-532776   出願人：ザリージェンツオブザユニバーシティオブカリフォルニア
• 多層光学素子
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-572698   出願人：ザリージェンツオブザユニバーシティオブカリフォルニア