特許
J-GLOBAL ID:200903013010428475
光反応性有害物除去材
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-044448
公開番号(公開出願番号):特開平9-234375
出願日: 1996年03月01日
公開日(公表日): 1997年09月09日
要約:
【要約】【課題】 酸化チタン等の光反応性半導体を利用した、悪臭等の有害物の除去能に優れると共に、光反応性半導体の保持性に優れ、かつ簡便に製造することができる光反応性有害物除去材を提供する。【解決手段】 支持体上に、少なくとも光反応性半導体、コロイダルシリカ、及び熱可塑性高分子エマルジョンよりなる光反応性有害物除去層を設けてなる光反応性有害物除去材、また少なくとも光反応性半導体及びコロイダルシリカ複合熱可塑性高分子エマルジョンよりなる光反応性有害物除去層を支持体上に設けてなる光反応性有害物除去材、また少なくとも光反応性半導体、担体、及びコロイダルシリカ複合熱可塑性高分子エマルジョンよりなる光反応性有害物除去層を支持体上に設けてなる光反応性有害物除去材。
請求項(抜粋):
支持体上に、少なくとも光反応性半導体、コロイダルシリカ、及び熱可塑性高分子エマルジョンよりなる光反応性有害物除去層を設けてなる光反応性有害物除去材。
IPC (4件):
B01J 35/02
, B01D 53/86
, A61L 9/00
, A61L 9/18
FI (4件):
B01J 35/02 J
, A61L 9/00 C
, A61L 9/18
, B01D 53/36 J
引用特許:
審査官引用 (5件)
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光触媒体およびその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-165836
出願人:石原産業株式会社, 藤嶋昭, 橋本和仁
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特開昭59-071316
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特開昭60-127371
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