特許

J-GLOBAL ID：200903013140783927

基板洗浄装置

発明者： 徳利 憲太郎
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (3件)： 吉田 茂明 ,  吉竹 英俊 ,  有田 貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-271250
公開番号（公開出願番号）：特開2006-086415
出願日： 2004年09月17日
公開日（公表日）： 2006年03月30日
要約：

【課題】洗浄処理時のウォーターマーク発生をより確実に防止することができる基板洗浄装置を提供する。【解決手段】洗浄処理ユニットSSには、二つのリンスノズル41,51が設けられており、それぞれ独自に別駆動される。洗浄用の混合流体を吐出する洗浄リンスノズル41は、窒素ガスと純水とを混合して純水液滴を含む混合流体を生成吐出する二流体ノズルである。液膜形成のためのカバーリンスノズル51も純水液滴を含む混合流体を生成吐出する二流体ノズルである。基板Wの直接の洗浄処理を担当する洗浄リンスノズル41だけでなく、カバーリンスノズル51をも混合流体を吐出する二流体ノズルとしているため、基板Wが疎水性基板であっても、その上面に均一な薄い純水水膜が形成され、洗浄処理時のウォーターマーク発生をより確実に防止することができる。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

洗浄液を基板に供給して洗浄する基板洗浄装置であって、 基板を略水平面内にて回転可能に保持する保持手段と、 前記保持手段に保持された基板の上面に洗浄液の液滴を生成して吐出する液滴生成手段と、 前記液滴生成手段から洗浄液の液滴が吐出される基板の上面に所定の液体の液滴を供給して該上面に液膜を形成する液膜形成手段と、 を備えることを特徴とする基板洗浄装置。

IPC (5件)：

H01L 21/304 ,  B08B 3/02 ,  G02F 1/13 ,  G02F 1/133 ,  H01L 21/306

FI (6件)：

H01L21/304 643A ,  B08B3/02 B ,  B08B3/02 D ,  G02F1/13 101 ,  G02F1/1333 500 ,  H01L21/306 R

Fターム (25件)：

2H088FA21 ,  2H088FA25 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088MA16 ,  2H088MA20 ,  2H090JB02 ,  2H090JC19 ,  3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB34 ,  3B201AB42 ,  3B201BB22 ,  3B201BB38 ,  3B201BB42 ,  3B201BB83 ,  3B201BB90 ,  3B201BB93 ,  3B201BB96 ,  3B201BB99 ,  3B201CD31 ,  3B201CD41 ,  5F043EE07 ,  5F043EE08 ,  5F043GG10

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-293790   出願人：大日本スクリーン製造株式会社