基板処理装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：吉田茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-293790
公開番号（公開出願番号）：特開2003-209087
出願日： 2002年10月07日
公開日（公表日）： 2003年07月25日
要約：

【要約】【課題】洗浄ミストが基板に吐出されることによって生じる障害を抑制しつつ、洗浄ミストと洗浄液とが干渉することによって発生する洗浄ミストの飛散を防止することができる基板洗浄装置を提供する。【解決手段】洗浄ミストを吐出するソフトスプレーノズル30は、鉛直方向に向けられてアーム21に固設されている。一方、障害を抑制するためのリンス純水を吐出するリンスノズル40は、ソフトスプレーノズル30から所定の距離をおいてアーム21に鉛直方向に向けて固設されている。洗浄処理中は、両ノズル30,40は相対的な配置関係を保持されたまま洗浄液を吐出することとなる。したがって、吐出される洗浄ミストおよびリンス純水は基板Wに着液する以前に干渉することはなく、使用された洗浄液は全て水平方向へ飛び出しカップ15に回収される。これにより、洗浄ミストが飛散して周囲に付着することが防止される。

請求項（抜粋）：

回転基台上に保持された基板を略水平面内にて回転させつつ洗浄する基板処理装置であって、第1の洗浄液を前記基板上に吐出して、前記基板上に液膜を形成する第1の吐出手段と、移動されつつ、前記液膜が形成された前記基板上に、第2の洗浄液と加圧された気体とを混合して形成される洗浄ミストを吐出する第2の吐出手段と、を備えることを特徴とする基板処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/304 643 , B08B 3/02 , B08B 3/08 , G02F 1/13 101 , H01L 21/306

FI (6件)：

H01L 21/304 643 C , B08B 3/02 B , B08B 3/02 D , B08B 3/08 A , G02F 1/13 101 , H01L 21/306 R

Fターム (23件)：

2H088FA17 , 2H088FA21 , 2H088FA30 , 2H088HA01 , 2H088MA20 , 3B201AA01 , 3B201AB33 , 3B201AB47 , 3B201BB38 , 3B201BB42 , 3B201BB90 , 3B201BB93 , 3B201BB95 , 3B201BB98 , 3B201CC13 , 3B201CD43 , 5F043AA37 , 5F043BB27 , 5F043DD12 , 5F043DD13 , 5F043DD15 , 5F043EE07 , 5F043EE08

引用特許：

審査官引用 (4件)

洗浄装置および洗浄方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-127984 出願人：三菱電機株式会社, 菱電セミコンダクタシステムエンジニアリング株式会社
基板洗浄装置および基板洗浄方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-333120 出願人：大日本スクリーン製造株式会社, 富士通株式会社
洗浄装置及び洗浄方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-335990 出願人：ソニー株式会社

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