ポリイミド光導波路の作製方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：中本宏 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-352859
公開番号（公開出願番号）：特開平5-164929
出願日： 1991年12月17日
公開日（公表日）： 1993年06月29日
要約：

【要約】【目的】光導波路の他の製造工程とマッチングのとれる、膜厚を精密に制御したポリイミドコア層を有するポリイミド光導波路のドライな作製方法を提供する。【構成】コア層を蒸着重合法で作製する、コア層がポリイミドからなるポリイミド光導波路の作製方法。コア層の形成は、真空蒸着重合装置で行うのが好適である。重合は通常ジアミンと酸二無水物との反応で行う。基板上での膜成長で反応を行うが、成長後の膜がポリアミド酸の場合には、引続き基板を加熱してポリイミド化を行う。

請求項（抜粋）：