特許

J-GLOBAL ID：200903013148462674

プローブ及びその製造方法並びに光記録装置

発明者： ▲高▼澤 信明
出願人/特許権者： トヨタ自動車株式会社
代理人 (4件)： 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一 ,  福田 浩志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-194844
公開番号（公開出願番号）：特開2007-012223
出願日： 2005年07月04日
公開日（公表日）： 2007年01月18日
要約：

【課題】 先端径の小さなプローブ及びその製造方法並びに鮮明な近接場光記録が可能な光記録装置の提供。【解決手段】 プローブ本体の先端部に担体層を設ける工程と、前記担体層に金属粒子を担持させる工程と、前記担体層に担持された金属粒子をシンタリングさせる工程と、を有するか、又は先端部に金属層の設けられたプローブ本体の前記金属層表面に金属イオンを含む自己組織化分子を付着させる工程と、前記自己組織化分子を加熱して前記金属層表面に金属粒子を付着させる工程と、を有するプローブの製造方法及びその方法により得られたプローブ並びに該プローブを備えた光記録装置。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

プローブ本体の先端部に担体層を設ける工程と、 前記担体層に金属粒子を担持させる工程と、 前記担体層に担持された金属粒子をシンタリングさせる工程と、 を有するプローブの製造方法。

IPC (5件)：

G11B 7/22 ,  G01N 13/10 ,  G01N 13/14 ,  G11B 7/135 ,  G12B 21/06

FI (5件)：

G11B7/22 ,  G01N13/10 G ,  G01N13/14 B ,  G11B7/135 Z ,  G12B1/00 601C

Fターム (4件)：

5D789AA21 ,  5D789CA22 ,  5D789DA01 ,  5D789NA05

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 散乱型近接場プローブ及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-251785   出願人：日本分光株式会社