散乱型近接場プローブ及びその製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：岩橋祐司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-251785
公開番号（公開出願番号）：特開2003-065933
出願日： 2001年08月22日
公開日（公表日）： 2003年03月05日
要約：

【要約】【課題】本発明の目的は、プローブの形状を自由にコントロールでき、さらに各ロット間で高い形状安定性を有し、各ロット間の共振周波数のずれを改善した散乱型近接場プローブを提供することにある。【解決手段】被測定物表面と先鋭状のプローブを近接させることによりエバネッセント光を散乱させ、その散乱光より被測定物の情報を得る近接場光学装置における散乱型近接場プローブにおいて、前記プローブは、ガラスファイバに金属を被覆してなることを特徴とする散乱型近接場プローブ及びその製造方法。

請求項（抜粋）：

被測定物表面と先鋭状のプローブを近接させることによりエバネッセント光を散乱させ、その散乱光より被測定物の情報を得る近接場光学装置における散乱型近接場プローブにおいて、前記プローブは、ガラスファイバに金属を被覆してなることを特徴とする散乱型近接場プローブ。

IPC (2件)：

G01N 13/14 , G12B 21/06

FI (2件)：

G01N 13/14 B , G12B 1/00 601 C

引用特許：

審査官引用 (4件)

光ファイバプローブ、その製造方法及び薄膜形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-262923 出願人：財団法人神奈川科学技術アカデミー
光ファイバプローブの製造方法及び光ファイバプローブ
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-266868 出願人：財団法人神奈川科学技術アカデミー
光ファイバープローブ
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-313921 出願人：財団法人神奈川科学技術アカデミー

全件表示

前のページに戻る