特許
J-GLOBAL ID:200903013176133570
基板の洗浄方法及び洗浄装置
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
原 謙三
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-266978
公開番号(公開出願番号):特開2001-087719
出願日: 1999年09月21日
公開日(公表日): 2001年04月03日
要約:
【要約】【課題】 大型の基板に対しても基板の損傷及び反りや撓みを気にせずに洗浄及び乾燥ができると共に、洗浄液の滞留を防止し、かつコストの増大を防止し得る基板の洗浄方法及び洗浄装置を提供する。【解決手段】 被洗浄基板3が洗浄チャンバー2の蓋として使用される。洗浄チャンバー2の内部には回転洗浄ブラシ7、MSシャワーノズル8及びエアーナイフ9が設けられている。
請求項(抜粋):
被洗浄基板を洗浄チャンバーの蓋として使用し、その洗浄チャンバー内で被洗浄基板の洗浄及び乾燥を行うことを特徴とする基板の洗浄方法。
IPC (3件):
B08B 1/04
, B08B 3/02
, G02F 1/13 101
FI (3件):
B08B 1/04
, B08B 3/02 A
, G02F 1/13 101
Fターム (33件):
2H088FA17
, 2H088FA21
, 2H088FA30
, 2H088HA08
, 2H088HA12
, 2H088MA20
, 3B116AA02
, 3B116AB01
, 3B116AB42
, 3B116BA02
, 3B116BA14
, 3B116BA34
, 3B116BB83
, 3B116CC01
, 3B116CC03
, 3B116CD11
, 3B201AA02
, 3B201AB01
, 3B201AB23
, 3B201AB42
, 3B201AB47
, 3B201BA02
, 3B201BA14
, 3B201BA34
, 3B201BB22
, 3B201BB82
, 3B201BB83
, 3B201BB92
, 3B201BB93
, 3B201CC01
, 3B201CC12
, 3B201CD11
, 3B201CD31
引用特許:
審査官引用 (5件)
-
特開昭54-120867
-
特開昭54-120867
-
特開平1-238122
-
特開平1-238122
-
乾燥処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-186024
出願人:東京エレクトロン株式会社
全件表示
前のページに戻る