特許

J-GLOBAL ID：200903040266090444

乾燥処理装置

発明者： 上川 裕二
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 中本 菊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-186024
公開番号（公開出願番号）：特開平11-016876
出願日： 1997年06月27日
公開日（公表日）： 1999年01月22日
要約：

【要約】【課題】 乾燥効率の向上及び乾燥ガスの消費量の低減を図れるようにすること。【解決手段】 複数のウエハWを適宜間隔をおいて水平方向に配列保持するウエハボート24と、このウエハボート24と共にウエハWを収容する乾燥室23と、この乾燥室23内に配設されると共にウエハWに対して有機溶剤の蒸気からなる乾燥ガスを供給する乾燥ガス供給ノズル37とを具備し、乾燥ガス供給ノズル37をウエハWの周方向に移動可能に形成する。これにより、乾燥室23内に収容されるウエハWと乾燥ガス供給ノズル37とを相対的に移動させながら乾燥ガス供給ノズル37から乾燥ガスをウエハW表面に均一に吹き付けることができ、乾燥ガスの蒸気を凝縮あるいは吸着させて、ウエハWの水分の除去及び乾燥を行うことができる。

請求項（抜粋）：

複数の被処理体を適宜間隔をおいて水平方向に配列保持する保持手段と、この保持手段と共に上記被処理体を収容する乾燥室と、この乾燥室内に配設されると共に上記被処理体に対して乾燥ガスを供給する乾燥ガス供給手段とを具備し、上記被処理体と乾燥ガス供給手段を相対的に移動可能に形成してなる、ことを特徴とする乾燥処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 361 ,  H01L 21/304 351 ,  H01L 21/304

FI (3件)：

H01L 21/304 361 V ,  H01L 21/304 351 C ,  H01L 21/304 351 S

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭63-182818
  
• 特開平4-251930
  
• 洗浄処理後の基板の乾燥処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-092432   出願人：大日本スクリーン製造株式会社