特許

J-GLOBAL ID：200903013211509724

アパタイトのマイクロパターン形成方法とこの方法で形成されたアパタイトシート並びにその製造方法

発明者： 末次 寧 ,  ドミニク・ウォルシュ ,  スティーブン・マン ,  生駒 俊之 ,  田中 順三
出願人/特許権者： 独立行政法人物質・材料研究機構
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-076053
公開番号（公開出願番号）：特開2006-256900
出願日： 2005年03月16日
公開日（公表日）： 2006年09月28日
要約：

【課題】 表面に凹凸の微細パターンや従来技術では作製が困難な気孔率の大小が周期的に変化する構造を極めて簡便に形成させることができ、細胞培養基板や組織再生工学用足場材料として有用な、アパタイトのマイクロパターン形成方法とこの方法で形成されたアパタイトシート並びにその製造方法を提供する。【解決手段】 リン酸イオンおよびカルシウムイオンを含む酸性水溶液をゲル化し、次いでこのゲルの外部からアルカリ性水溶液を拡散させ、pH上昇に伴う溶解度低下により沈殿を析出させて、20〜200μm周期のアパタイトの縞状パターンをゲル中に形成させる。【選択図】 図3

請求項（抜粋）：

リン酸イオンおよびカルシウムイオンを含む酸性水溶液をゲル化し、次いでこのゲルの外部からアルカリ性水溶液を拡散させ、pH上昇に伴う溶解度低下により沈殿を析出させて、20〜200μm周期のアパタイトの縞状パターンをゲル中に形成させることを特徴とするアパタイトのマイクロパターン形成方法。

IPC (4件)：

C01B 25/32 ,  A61L 27/00 ,  C12M 3/00 ,  C12N 5/06

FI (4件)：

C01B25/32 B ,  A61L27/00 U ,  C12M3/00 A ,  C12N5/00 E

Fターム (24件)：

4B029AA08 ,  4B029AA21 ,  4B029BB11 ,  4B029CC02 ,  4B029GB07 ,  4B029GB09 ,  4B065AA90X ,  4B065BC46 ,  4B065CA44 ,  4C081BA17 ,  4C081BB04 ,  4C081BC01 ,  4C081CD34 ,  4C081CF032 ,  4C081DA01 ,  4C081DA02 ,  4C081DB05 ,  4C081DB06 ,  4C081DB07 ,  4C081DC03 ,  4C081DC06 ,  4C081EA02 ,  4C081EA04 ,  4C081EA06

引用特許：

出願人引用 (2件)

• アパタイト構造体、及びアパタイトパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-104926   出願人：八尾健, ティーアンドティーアソシエイツ有限会社
• インクジェットを用いる構造体およびパターンの形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-225933   出願人：クラスターテクノロジー株式会社, 株式会社ミレニアムゲートテクノロジー, 八尾健