処理液供給装置及び処理液供給方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-180433
公開番号（公開出願番号）：特開2000-012449
出願日： 1998年06月26日
公開日（公表日）： 2000年01月14日
要約：

【要約】【課題】処理液中の未だ気泡となっていない溶存ガス成分の気泡化を促進し、それらを除去できる処理液供給装置を提供する。【解決手段】液タンク7と、上流端側がこの液タンク7に下流端側がノズル20に接続されたレジスト液供給配管8と、第1の動作により供給配管8内のレジスト液をレジスト液タンク7側から所定量吸込み、第2の動作により前記ノズル20側へ吐出する単動式ポンプ10と、この単動式ポンプ10の下流側に設けられ、前記第2の動作時に前記供給配管8の流路を開いて前記ノズル20からレジスト液を吐出させる下流側開閉弁11と、単動式ポンプ10の上流側に設けられ、前記第1の動作時に前記供給配管8の流路を閉じ供給配管8内を負圧にすることでレジスト液内の溶存ガス成分の気泡化を促進し、その後流路を開く上流側開閉弁15と、気泡化した溶存ガスを収集する気泡収集タンク16とを有する。

請求項（抜粋）：

処理液供給源と、一端側がこの処理液供給源に接続された処理液供給配管と、この処理液供給配管の他端側に接続されたノズルと、前記処理液供給配管に設けられ、処理液を処理液供給源側から前記ノズル側へ吐出するポンプと、前記ポンプと処理液供給源との間の処理液供給配管に設けられた開閉弁と、前記開閉弁とポンプとの間の処理液供給配管に設けられ、処理液内の溶存ガス成分を除去する溶存ガス除去手段を設けたことを特徴とする処理液供給装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , B05C 11/08 , B05C 11/10 , G03F 7/30 501

FI (5件)：

H01L 21/30 564 C , B05C 11/08 , B05C 11/10 , G03F 7/30 501 , H01L 21/30 569 C

Fターム (16件)：

2H096AA25 , 2H096AA27 , 2H096CA14 , 2H096GA29 , 4F042AA06 , 4F042AA07 , 4F042CA01 , 4F042CA07 , 4F042CB02 , 4F042CB08 , 4F042CB19 , 4F042EB17 , 5F046JA02 , 5F046JA03 , 5F046JA04 , 5F046LA03

引用特許：

出願人引用 (4件)

特開平4-197434
特開昭62-165919
特開昭63-086519

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審査官引用 (2件)

特開平4-197434
特開平4-197434

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