特許

J-GLOBAL ID：200903013220720039

ポジ型感放射線性組成物

発明者： 望月 英章 ,  田中 由紀 ,  亀山 泰弘 ,  藤田 淳 ,  新実 高明
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-294038
公開番号（公開出願番号）：特開平10-186666
出願日： 1997年10月27日
公開日（公表日）： 1998年07月14日
要約：

【要約】【課題】 高感度、高解像力であり、かつ引き置き時間が長時間におよんでもレジストパターンの変動が生じることがない、LSI、超LSI用ポジ型感放射線性組成物を提供する。【解決手段】 (a)ポリヒドロキシスチレン類の水酸基が下記一般式(I)で表される酸不安定基で保護された樹脂、(b)光酸発生剤、及び(c)一般式(II)で示されるアミン化合物を含むことを特徴とするポジ型感放射線性組成物。【化1】(式中、R1 〜R5 は独立に、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基またはアルコキシル基であり、R1 とR3 は結合して環を形成していてもよい。)【化2】(式中、nは1〜3の整数であり、R6 、R7 、R8 、R9 はそれぞれ独立に水素原子、置換基を有しても良い炭素数1以上4以下のアルキル基であり、R10は水素原子、置換基を有しても良い炭素数1以上8以下のアルキル基、または置換基を有してもよい芳香族基を表す。)

請求項（抜粋）：

(a)ポリヒドロキシスチレン類の水酸基が下記一般式(I)で表される酸不安定基で保護された樹脂、(b)光酸発生剤、及び(c)一般式(II)で示されるアミン化合物を含むことを特徴とするポジ型感放射線性組成物。【化1】(式中、R1 〜R5 は独立に、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基又はアルコキシル基であり、R1 とR3 は結合して環を形成していてもよい。)【化2】(式中、nは1〜3の整数であり、R6 、R7 、R8 、R9 はそれぞれ独立に水素原子、置換基を有しても良い炭素数1以上4以下のアルキル基であり、R10は水素原子、置換基を有しても良い炭素数1以上8以下のアルキル基、又は置換基を有してもよい芳香族基を表す。)

IPC (5件)：

G03F 7/039 601 ,  C08K 5/17 ,  C08L 25/18 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 7/039 601 ,  C08K 5/17 ,  C08L 25/18 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 感放射線組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-027847   出願人：三菱化学株式会社
• 化学増幅ポジ型レジスト材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-188461   出願人：信越化学工業株式会社