特許
J-GLOBAL ID:200903053418467659

感放射線組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 長谷川 曉司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-027847
公開番号(公開出願番号):特開平9-222733
出願日: 1996年02月15日
公開日(公表日): 1997年08月26日
要約:
【要約】【課題】 高感度で高解像性であり、引き置き時間が長時間に及んでもレジストパターンの寸法変動を生じることなく、かつ、耐熱性に優れ、LSI、超LSI製造時のフォトリソグラフィ技術において優れ、工業的に極めて有用な感放射線組成物を得る。【解決手段】 構造単位(I)を含む樹脂A、構造単位(II)を含む樹脂B、【化1】(ただし、R1 、R2 、R3 、R7 、R8 、及びR9 はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1以上4以下のアルキル基を表し、R4 及びR5 はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1以上10以下のアルキル基を表し、R6 及びR10はそれぞれ独立に炭素数1以上10以下のアルキル基を表す。また、R4 とR5 あるいはR4 とR6 とが互いに結合して、炭素数3以上10以下の環を形成していてもよい。)放射線により酸を発生する化合物C、及び該化合物Cにより発生した酸に対して塩基として作用する有機化合物Dを含有してなる感放射線組成物。
請求項(抜粋):
構造単位(I)を含む樹脂A、構造単位(II)を含む樹脂B、【化1】(ただし、R1 、R2 、R3 、R7 、R8 、及びR9 はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1以上4以下のアルキル基を表し、R4 及びR5 はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1以上10以下のアルキル基を表し、R6 及びR10はそれぞれ独立に炭素数1以上10以下のアルキル基を表す。また、R4 とR5 あるいはR4 とR6 とが互いに結合して、炭素数3以上10以下の環を形成していてもよい。)放射線により酸を発生する化合物C、及び該化合物Cにより発生した酸に対して塩基として作用する有機化合物Dを含有してなる感放射線組成物。
IPC (5件):
G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/027
FI (5件):
G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/30 502 R
引用特許:
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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