特許
J-GLOBAL ID：200903013243342988

基板処理装置および基板処理方法

発明者：
岡本 伊雄

岡本 伊雄 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (2件)： 稲岡 耕作 ,  川崎 実夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-082008
公開番号（公開出願番号）：特開2004-214695
出願日： 2004年03月22日
公開日（公表日）： 2004年07月29日
要約：
【課題】基板の周縁部を良好に洗浄できる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 【解決手段】ウエハ保持装置6は、6つの保持用ローラ13,33を有している。これらの保持用ローラ13,33は、ウエハWの端面形状に対応した円周上に配置されており、ウエハWは、保持用ローラ13,33の側面にその端面が当接した状態で保持される。保持用ローラ13,33は、ウエハWを保持した状態でウエハWを回転させるべく、ベース部12,32に回転可能に設けられている。また、ウエハWの上面および下面の周縁部に、その周縁部からスラリーを除去したり、その周縁部の不要な薄膜をエッチングしたりするための液を供給するための第2洗浄液供給ノズルが設けられている。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
基板の端面に当接して当該基板を保持して回転させ、その基板回転中に当該基板の端面に対する当接位置を変更可能な基板回転手段と、 この基板回転手段によって回転される基板の周縁部に洗浄液を供給するためのノズルとを含むことを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
H01L21/304 ,  H01L21/306
FI (3件)：
H01L21/304 643A ,  H01L21/304 647Z ,  H01L21/306 R
Fターム (4件)：
5F043DD13 ,  5F043EE08 ,  5F043EE35 ,  5F043GG10
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • ウエハ洗浄装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-058153   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
審査官引用 (3件)
  • 特開平4-345029
  • 特開平2-197126
  • 特開昭62-264626

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