マルチビーム走査装置及び画像形成装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：柏木慎史 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-378264
公開番号（公開出願番号）：特開2001-235696
出願日： 2000年12月13日
公開日（公表日）： 2001年08月31日
要約：

【要約】【課題】複数個の半導体レーザアレイを組合せるマルチビーム光源装置を用いる方式の利点を活かし、必ずしも飛び越し走査を必要とせずに、発光点間隔を近接させずに、熱クロストークによる光量変動を抑え高密度・高品位な画像が得られるマルチビーム走査装置を提供する。【解決手段】直線上に複数個の発光点を配列してなる半導体レーザアレイ1,2とコリメートレンズ3,4とを対として複数対配設させたマルチビーム光源装置を用いるマルチビーム走査装置において、発光点から結像点に至るまでの走査光学系19全系の副走査方向の幾何学的な横倍率βが、β=P・n・k/ds(ここで、kは正の整数)を満たすようにアレイ数n又は整数kの値を適宜設定することで、半導体レーザアレイ1,2の発光点の間隔を狭めずに記録密度を向上でき、熱クロストークの影響を受けずに安定した光量制御が行なえ高品位な画像出力が可能となる。

請求項（抜粋）：

直線上に複数個の発光点を配列してなる半導体レーザアレイとこの半導体レーザアレイから射出される複数本の光ビームをカップリングする1つのコリメートレンズとを対として複数対配設させたマルチビーム光源装置を用いるマルチビーム走査装置において、前記半導体レーザアレイの個数をn(n≧2)、発光点の副走査方向ピッチをds、走査線間隔をPとしたとき、前記発光点から被走査面上の結像点に至る走査光学系全系の副走査方向の幾何学的な横倍率βがβ=P・n・k/ds (ここで、kは正の整数)なる式を満たすことを特徴とするマルチビーム走査装置。

IPC (5件)：

G02B 26/10 , B41J 2/44 , H01S 5/40 , H04N 1/113 , H04N 1/23 103

FI (6件)：

G02B 26/10 D , G02B 26/10 B , H01S 5/40 , H04N 1/23 103 Z , B41J 3/00 D , H04N 1/04 104 A

引用特許：

審査官引用 (1件)

光走査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-005463 出願人：富士ゼロックス株式会社

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