特許
J-GLOBAL ID：200903013315238102

高純度金属精製装置及び高純度金属精製方法

発明者：
金川 昭宏

金川 昭宏 について

, 
松井 利弘

松井 利弘 について


出願人/特許権者：
三菱重工業株式会社

三菱重工業株式会社 について


代理人 (1件)： 曾我 道照 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-162325
公開番号（公開出願番号）：特開2001-335854
出願日： 2000年05月31日
公開日（公表日）： 2001年12月04日
要約：
【要約】【課題】 高純度の金属を大量に且つ短時間で製造する。【解決手段】 高純度金属精製装置10は、真空容器1、真空容器1に連通して設けられ真空容器1内を所定の真空度に到達するように排気する真空ポンプ11、真空容器1内に設けられた浅い水冷坩堝3、真空容器1の上部に設けられ水冷坩堝3に向かって電子ビーム13を出射する電子銃7及び電子銃7から出る電子ビーム13の照射方向と照射幅を制御する偏向コイル9を有する。
請求項（抜粋）：
真空容器、同真空容器に連通して設けられ該真空容器内を所定の真空度に到達するように排気する真空ポンプ、前記真空容器内に設けられた浅い水冷坩堝、前記真空容器の上部に設けられ前記水冷坩堝に向かって電子ビームを出射する電子銃及び同電子銃から出る電子ビームの照射方向と照射幅を制御する偏向コイルを有する高純度金属精製装置。
IPC (8件)：
C22B 9/22 ,  B22D 23/06 ,  B22D 27/02 ,  B22D 27/04 ,  C21C 7/10 ,  C22B 9/02 ,  C22B 9/04 ,  F27D 11/08
FI (8件)：
C22B 9/22 ,  B22D 23/06 ,  B22D 27/02 C ,  B22D 27/04 A ,  C21C 7/10 P ,  C22B 9/02 ,  C22B 9/04 ,  F27D 11/08 D
Fターム (24件)：
4K001AA02 ,  4K001AA10 ,  4K001AA20 ,  4K001BA23 ,  4K001EA02 ,  4K001EA05 ,  4K001FA13 ,  4K001GA13 ,  4K001GB12 ,  4K001HA09 ,  4K013AA00 ,  4K013CD01 ,  4K013CE03 ,  4K013CE09 ,  4K013FA00 ,  4K063AA03 ,  4K063AA04 ,  4K063AA12 ,  4K063AA16 ,  4K063BA02 ,  4K063BA03 ,  4K063CA03 ,  4K063FA57 ,  4K063FA78
引用特許：
出願人引用 (7件)
全件表示
審査官引用 (3件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM