特許
J-GLOBAL ID：200903013336874211
液浸リソグフラフィ装置用の移送領域を含む環境システム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
川北 喜十郎
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-509568
公開番号（公開出願番号）：特表2006-523028
出願日： 2004年04月01日
公開日（公表日）： 2006年10月05日
要約：
光アセンブリ(16)とデバイス(30)の間のギャップ(246)の環境を制御する環境システム(26)は、流体バリア(254)、液浸流体システム(252)及び移送領域(256)を含む。流体バリア(254)は、デバイス(30)の近くに位置付けられ、移送領域(256)をギャップ(246)の近くに維持する。液浸流体システム(252)は、ギャップ(246)を充たす液浸流体(248)を供給する。移送領域(356)は、流体バリア(254)及びデバイス(30)の近くにある液浸流体(248)の少なくとも一部をデバイス(30)から離れるように移送する。液浸流体システム(252)は、移送領域(256)と流通している流体除去システム(282)を含むことができる。移送領域は多孔性材料で製作できる。
請求項（抜粋）：
ワークピースを保持するように構成されたステージと、
像を画成するレチクルを保持するように構成されたレチクルステージと、
照明源及び光学素子を含む投影システムであって、レチクルによって画成された像を前記ワークピース上の露光領域に投影するように構成された投影システムと、
前記光学素子と前記ワークピースの間のギャップであって、液浸流体で充たされるように構成されたギャップと、
前記ギャップに隣接して位置付けられた多孔性材料であって、前記ギャップから出る液浸流体を捕集する複数の通路を有する多孔性材料とを備えた装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/30 515D
, G03F7/20 521
, H01L21/30 515G
5F046BA03
, 5F046CB24
, 5F046CC01
, 5F046CC08
, 5F046DA27
