基板処理装置および基板処理方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：吉田茂明 , 吉竹英俊 , 有田貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-278896
公開番号（公開出願番号）：特開2008-098430
出願日： 2006年10月12日
公開日（公表日）： 2008年04月24日
要約：

【課題】基板に付着した有機物を良好に除去できる基板処理装置および基板処理方法を提供する。【解決手段】除去ユニット10は、主として、マイクロバブル水11aを基板Wに向けて吐出する複数の吐出ノズル11と、マイクロバブル発生部21と、を備えており、基板Wに付着した有機物を除去する。洗浄ユニット60は、主として、複数の上側ノズル61と、複数の下側ノズル62と、貯留槽80と、を備えており、除去ユニット10での有機物除去処理が施された基板Wに対して純水によるリンス処理を施す。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

マイクロバブルを発生させるマイクロバブル発生部と、前記マイクロバブル発生部によって発生させられたマイクロバブルを含む第1処理液を、基板に供給する第1供給部と、前記第1供給部によって前記第1処理液が供給された前記基板に、第2処理液を供給する第2供給部と、を備えることを特徴とする基板処理装置。

IPC (6件)：

H01L 21/027 , H01L 21/304 , B08B 3/08 , G02F 1/13 , G02F 1/133 , G11B 7/26

FI (6件)：

H01L21/30 572B , H01L21/304 647Z , B08B3/08 Z , G02F1/13 101 , G02F1/1333 500 , G11B7/26

Fターム (26件)：

2H088FA21 , 2H088FA24 , 2H088FA30 , 2H088HA01 , 2H088MA20 , 2H090JB02 , 2H090JC19 , 3B201AA02 , 3B201AA03 , 3B201AB13 , 3B201BB01 , 3B201BB03 , 3B201BB83 , 3B201BB92 , 3B201BB98 , 3B201CB15 , 3B201CD41 , 5D121AA02 , 5D121DD13 , 5D121GG18 , 5D121GG28 , 5F043DD13 , 5F043EE07 , 5F043EE36 , 5F046MA05 , 5F046MA10

引用特許：

出願人引用 (1件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-322499 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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