特許
J-GLOBAL ID：200903013379890709
落花生様双子型コロイダルシリカ粒子およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
中村 静男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-371781
公開番号（公開出願番号）：特開2004-203638
出願日： 2002年12月24日
公開日（公表日）： 2004年07月22日
要約：
【課題】半導体基板やハードディスク基板などの研磨処理に用いられる研磨スラリー用として、優れた研磨性能を有するコロイダルシリカ粒子、およびその製造方法を提供する。【解決手段】長手方向に対する垂直方向の径が、長手方向中央付近において極小値を有し、かつその平均極小径と長手方向に対する垂直方向の平均最大径(平均短径)との比が、0.70〜0.90:1の範囲にある落花生様双子型コロイダルシリカ粒子、およびアンモニウムイオンを含む水性溶媒中に、テトラアルコキシシランを原料として連続的に添加し、加水分解、縮合させるに際し、前記原料の総添加量を、反応初期の段階における2個の単一シリカ粒子の合着までに要する原料添加量の2.0〜6.0倍の範囲になるように制御する落花生様双子型コロイダルシリカ粒子の製造方法である。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
形状が落花生様双子型であり、長手方向に対する垂直方向の径が、長手方向中央付近において極小値を有し、かつその極小径の平均と長手方向に対する垂直方向の最大径の平均(平均短径)との比が、0.70〜0.90:1の範囲にあることを特徴とする落花生様双子型コロイダルシリカ粒子。
IPC (4件)：
C01B33/14
, B24B37/00
, C01B33/152
, H01L21/304
C01B33/14
, B24B37/00 H
, C01B33/152 B
, H01L21/304 622D
3C058AA07
, 3C058AC04
, 3C058CB01
, 3C058DA17
, 4G072AA28
, 4G072BB20
, 4G072CC04
, 4G072GG01
, 4G072GG03
, 4G072HH30
, 4G072JJ23
, 4G072LL06
, 4G072LL11
, 4G072PP05
, 4G072RR05
, 4G072UU30
