特許
J-GLOBAL ID：200903013449555350
受光素子キャリア
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-144264
公開番号（公開出願番号）：特開2002-343981
出願日： 2001年05月15日
公開日（公表日）： 2002年11月29日
要約：
【要約】【課題】 連続した配線パターンを2面以上に印刷等で形成した場合に発生する位置ずれに関係なく、受光素子を搭載する受光素子搭載部と画像認識用マークとの位置ずれをなくし、光ファイバや発光素子と受光素子との位置関係を撮像装置等により画像認識で容易に位置合わせをすること。【解決手段】 絶縁基台1の上面の配線パターン2以外の部位に形成された、メタライズ層とNiメッキ層とAuメッキ層とを順次積層して成る導体パターン9の表面に、レーザ光によって底がNiメッキ層に達している溝から成る画像認識用マーク8が形成されている。
請求項（抜粋）：
略直方体の絶縁基台の上面および側面に配線パターンが形成されているとともに前記側面の前記配線パターンに受光素子搭載部が形成されている受光素子キャリアにおいて、前記絶縁基台の上面の前記配線パターン以外の部位に形成された、メタライズ層とNiメッキ層とAuメッキ層とを順次積層して成る導体パターンの表面に、レーザ光によって底が前記Niメッキ層に達している溝から成る画像認識用マークが形成されていることを特徴とする受光素子キャリア。
Fターム (5件)：
5F088BA16
, 5F088JA03
, 5F088JA11
, 5F088JA14
, 5F088JA20
