気相成長装置および気相成長方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：船橋國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-352558
公開番号（公開出願番号）：特開2008-166397
出願日： 2006年12月27日
公開日（公表日）： 2008年07月17日
要約：

【課題】ラン/ベント方式における流路切り換え時に発生し得るラン側配管内の圧力変動を無くし、原料ガスを安定的に反応管内に供給し得るようにする。【解決手段】反応管1へのガスの供給経路であるランライン2と、前記ガスの排気経路であるベントライン3とを用い、原料ガスを前記ランライン2へ流しつつ前記ベントライン3にダミーガスを流すか、あるいは前記原料ガスを前記ベントライン3へ流しつつ前記ランライン2に前記ダミーガスを流すかの流路切り換えを行う気相成長装置において、前記流路切り換えに起因する前記ランライン2の圧力変動を検出する変動検出手段12と、前記変動検出手段12による検出結果を記憶する記憶手段22と、前記流路切り換えのタイミングに合わせて前記記憶手段22の記憶内容を基にした前記ランライン2のガス流量調整を行うシーケンシャル制御手段23とを備える。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

気相成長による成膜を行うための反応管と、前記反応管へのガスの供給経路として機能するランラインと、前記ガスの排気経路として機能するベントラインと、前記気相成長に必要な原料ガスを前記ランラインへ流しつつ前記ベントラインにダミーガスを流すか、あるいは前記原料ガスを前記ベントラインへ流しつつ前記ランラインに前記ダミーガスを流すかを切り換える切換手段とを具備する気相成長装置において、前記切換手段による流路切り換えに起因して生じる前記ランラインにおける圧力変動またはガス流量変動を検出する変動検出手段と、前記変動検出手段による検出結果または当該検出結果から一意に導き出せる値を記憶する記憶手段と、前記切換手段に流路切り換えの動作指示を与えるとともに当該切換手段による流路切り換えタイミングに合わせて前記記憶手段の記憶内容を基にした前記ランラインにおけるガス流量の調整を行うシーケンシャル制御手段とを備えることを特徴とする気相成長装置。

IPC (1件)：

H01L 21/205

FI (1件)：

H01L21/205

Fターム (8件)：

5F045AA04 , 5F045AB09 , 5F045BB03 , 5F045BB05 , 5F045EC10 , 5F045EE04 , 5F045EE18 , 5F045GB06

引用特許：

出願人引用 (2件)

特開平4-324623号公報
有機金属気相成長装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-092858 出願人：古河電気工業株式会社

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