特許
J-GLOBAL ID:200903013582591202

溶鉄のNd添加による処理方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 森 道雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-003257
公開番号(公開出願番号):特開2007-186722
出願日: 2006年01月11日
公開日(公表日): 2007年07月26日
要約:
【課題】Ndの添加により溶鉄中に効率よくNdP介在物を形成させて、溶解P濃度を低減するとともに、上記介在物を除去する必要のない溶鉄の処理方法を提供する。【解決手段】C:3.5%以下、Si:2.5%以下、Mn:3%以下、P:0.0001%以上0.5%以下およびAl:3%以下を含有する溶鉄にNdを添加するに際し、スラグ中の(CaO/Al2O3)の値を0.7以上9以下、およびスラグ中の(CaO/SiO2)の値を0.65以上として、溶鉄中のNd濃度:[Nd](質量%)を溶鉄中のP濃度:[P](質量%)に応じて下記(1)式または(2)式により表される関係を満足するように制御する溶鉄の処理方法である。 4.8×10-5/[P]≦[Nd]・・・・(1) 4.8×10-5/[P]≦[Nd]≦9.6×10-3/[P]・・・・(2)【選択図】図2
請求項(抜粋):
質量%で、C:3.5%以下、Si:2.5%以下、Mn:3%以下、P:0.0001%以上0.5%以下およびAl:3%以下を含有する溶鉄にNdを添加するに際し、スラグ中のCaOとAl2O3の質量濃度比である(CaO/Al2O3)の値を0.7以上9以下、およびスラグ中のCaOとSiO2の質量濃度比である(CaO/SiO2)の値を0.65以上として、溶鉄中のNd濃度である[Nd](質量%)を溶鉄中のP濃度である[P](質量%)に応じて下記(1)式により表される関係を満足するように制御することを特徴とする溶鉄の処理方法。 4.8×10-5/[P]≦[Nd] ・・・・(1)
IPC (2件):
C21C 7/04 ,  C21C 7/064
FI (2件):
C21C7/04 D ,  C21C7/064 A
Fターム (16件):
4K013AA09 ,  4K013BA03 ,  4K013CA09 ,  4K013CB01 ,  4K013CB04 ,  4K013CB07 ,  4K013CD04 ,  4K013CE01 ,  4K013CE04 ,  4K013CE06 ,  4K013CF13 ,  4K013EA26 ,  4K013EA32 ,  4K013FA02 ,  4K013FA05 ,  4K013FA06
引用特許:
出願人引用 (2件)
  • 特公平6-21288号公報(特許請求の範囲および3頁左欄8〜13行)
  • 特開平2-254136号公報(特許請求の範囲、4頁右下欄16〜20行など)
審査官引用 (2件)

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